微芯芯片,Microchip处理器,ATMEL芯片,爱特梅尔微处理器

微芯MPU,Microchip处理器,ARM处理器,Cortex处理器,微芯MCU,爱特梅尔MCU
 
联系方式:15210969646   QQ:653812960  Emal:653812960@qq.com
|
|
|
|
|
|
|
|
|

镭切电阻激光功率和焦点的选择:
2024/11/7 11:13:43 82

镭切电阻激光功率和焦点的选择:

‌镭切电阻调节电阻值时,激光功率和焦点大小的选择非常重要。

激光功率:

镭切电阻调节电阻值时,激光功率的选择取决于具体的设备和工艺要求。

一般来说,激光功率需要在适当的范围内,以确保切割效果和精度。

例如,激光调阻机通常具有不同的激光功率设置,如10W、20W和7W(UV355)‌

选择合适的激光功率可以保证切割的稳定性和精度。

激光焦点大小:

激光焦点的大小直接影响切割的精度和效果。焦点越小,激光束的能量密度越高,

切割效果越好,但过小的焦点可能导致材料过热或损坏。焦点的大小需要根据具

体的材料和切割需求进行调整。一般来说,焦点大小的选择应确保激光束能够精

确地作用于电阻层,同时避免对周围材料的损害‌。

调节电阻值的具体步骤:

1.准备阶段‌:确保设备处于最佳工作状态,激光功率和焦点大小已调整至合适范围。

2.切割过程‌:利用激光束按计算机预定的程序切割厚、薄膜电阻,通过改变电阻的几何形状来改变其阻值。

3.实时监测‌:在切割过程中实时监测电阻值的变化,确保其逐渐接近目标阻值。

4.结束条件‌:当电阻达到目标阻值后,激光束关闭,完成调节过程‌.

通过以上步骤和参数的合理设置,可以有效地调节镭切电阻的阻值,确保其精度和稳定性。

 


友情连接:
热线电话: 15210969646 QQ:653812960 Emal:653812960@qq.com
COPYRIGHT@2003-2021 microchipc.5ccic.com 京ICP备11040779号-6